Name: Plataforma de curado para Máquina de Wash & Cure Para Photon 4~10 g/10min
Brand: zhencb.com
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Plataforma de curado para Máquina de Wash & Cure Para Photon 4~10 g/10min

Description

4~10 g/10min

actualizando o reemplazando estos componentes esenciales

10X[1] Más Rápido

150 mm/s (Típ

Plataforma de curado para Máquina de Wash & Cure Para Photon 4~10 g/10minActualice su proceso de poscurado con esta mesa de curado diseada para mquinas de lavado y curado Anycubic, que proporciona una plataforma estable y eficaz para lograr impresiones de resina curada de alta calidad.

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